最小曝光量
释
拼音zuì xiǎo pù guāng liàng
字母zui xiao pu guang liang
首字母zxpgl
注音ㄗㄨㄟˋ ㄒㄧㄠˇ ㄆㄨˋ ㄍㄨㄤ ㄌㄧㄤˋ
注音符号ㄗㄨㄟ ㄒㄧㄠ ㄆㄨ ㄍㄨㄤ ㄌㄧㄤ
最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。
最小曝光量，完成下述作用所必需的光学辐照(能够产生光化学反应的电磁辐射)的总累积能量：(1)使给定厚度的胶膜恰好完全溶解复制一个正性光学掩模版；(2)使给定厚度抗蚀剂胶膜恰好不溶解复制一个负性光学掩模版。